ProE-Vap 200 輸送系統(tǒng)專為原子層沉積 (ALD) 和化學(xué)氣相沉積 (CVD) 工藝中使用的固體前驅(qū)體而設(shè)計(jì)。它能為當(dāng)前和未來(lái)技術(shù)節(jié)點(diǎn)使用的各種固體材料提供穩(wěn)定的質(zhì)量流量。固體前驅(qū)體由于蒸汽壓力低、熱穩(wěn)定性有限，很難穩(wěn)定地輸送到沉積室中。與其他蒸發(fā)器相比，ProE-Vap 輸送系統(tǒng)能在更低的溫度下更穩(wěn)定地輸送固體前驅(qū)體，從而降低 ALD 和 CVD 的擁有成本。大限度地減少了化學(xué)濃度漂移，從而提高了晶圓產(chǎn)量，減少了工具停機(jī)時(shí)間。自 2008 年以來(lái)，ProE-V 已在大批量生產(chǎn)環(huán)境中證明了其高可靠性和強(qiáng)大的性能。它支持輸送制造高度復(fù)雜的微電子器件所需的各種無(wú)機(jī)和過(guò)渡金屬前驅(qū)體。提供多種配置，可安裝在不同的 OEM 工具套件上。

填充能力比 ProE-Vap 100 高出七倍多

更高的流量應(yīng)用，包括間歇式熔爐

減少更換源的頻率

創(chuàng)新設(shè)計(jì)的安瓿用于固體前驅(qū)體的輸送

與傳統(tǒng)蒸發(fā)器相比，可在較低溫度下提供更高的質(zhì)量流量

支持氣動(dòng)和手動(dòng)閥門(mén)選項(xiàng)

整體性能高，在整個(gè)汽化器使用壽命期間流量始終如一

經(jīng)證明可用于半導(dǎo)體應(yīng)用中的多種固體前驅(qū)體，并可用于 LED 等其他新興技術(shù)

可有效利用前驅(qū)體，大限度地減少過(guò)熱導(dǎo)致的分解

與多個(gè) OEM 工具兼容；支持開(kāi)發(fā)型大批量晶片處理

降低擁有成本

材料汽化表面積增加 6 倍

托盤(pán)可改善材料的熱傳導(dǎo)，從而提高熱均勻性

載氣流穿過(guò)固體表面，提高了汽化材料的拾取率

產(chǎn)地：美國(guó)

Max溫度：200 °C（392 °F）

Max壓力：工作溫度下 100 psig

外形尺寸（高×寬）：331.34 × Ø243.84 mm（13.04 × 9.60 英寸）

進(jìn)氣口位置：中軸

接頭類(lèi)型：1⁄4 " 內(nèi)螺紋 VCR

高度：331.34 mm（13.04 英寸）

燃?xì)獬隹谖恢茫浩x中軸 3.54 "

接頭類(lèi)型：1⁄2 " 外螺紋 VCR

高度：328.31 mm（12.93 英寸）

材質(zhì)：316L SS

表面處理：≤ 10 Ra

載氣：UHP He（氦氣） UHP Ar（氬氣） UHP N₂（氮?dú)猓?/p>

頂氣：5 psi He

原子層沉積--化學(xué)氣相沉積、高κ電容器和柵極電介質(zhì)、金屬屏障和電極、無(wú)氟鎢 (FFW)